2010年 秋季 第71回応用物理学会学術講演会

日時:9月14日(火)〜9月17日(金)
場所:長崎大学文教キャンパス

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No 発表日 講演No 発表時間 会場 セクション 講演タイトル 講演者 区分
1 9月14日 14p-NE-6 14:15-14:30 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  斜方晶RMnO3単結晶薄膜におけるマルチフェロイック特性 理研 CMRG&CERG1,ERATO-MF2,東大工3,東北大WPI材料機構4 中村優男1,徳永祐介2,Jong Seok Lee3,川崎雅司1,4,十倉好紀1,2,3  Oral
2 14p-G-12 16:15-17:00 G 4F-403番教室
全学教育本館
5.3光制御  ZnOチャネル型光導波路における自己位相変調効果の観測 東北大院工1,コーネル大2,東大院工3,JSTさきがけ4,東北大金研5,東北大WPI材料機構6,JST-CREST7 エドガル芳男 モラレス寺岡1,ダニエル ブロードス2,北 智洋1,塚崎 敦3,4,川崎雅司5,6,7,ガエッタ アレキサンダー2,山田博仁1  Oral
3 14p-NE-18 17:30-17:45 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  SrIr1-xRuxO3薄膜の合成と物性 理研 CMRG&CERG1,東北大WPI材料機構2,ERATO-MF3,東大工4 高橋 圭1,川崎雅司1,2,十倉好紀1,3,4  Oral
4 9月15日 15p-NE-4 13:45-14:00 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  EuOエピタキシャル薄膜の異常ホール効果 東北大金研1,東大理2,科技機構さきがけ3,東北大WPI材料機構4,東大工5,科技機構戦略6 山崎高志1,福村知昭2,3,上野和紀4,塚崎 敦3,5,川崎雅司1,4,6  Oral
5 15p-NE-5 14:00-14:15 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  電子ドープVO2薄膜におけるX線誘起絶縁体-金属相転移 理研 CMRG&CERG1,産総研2,KEK物構研3,東北大多元研4,東北大WPI材料機構5,東大工6,ERATO-MF7 渋谷圭介1,奥山大輔1,熊井玲児2,山崎裕一3,中尾裕則3,村上洋一3,田口康二郎1,有馬孝尚4,川崎雅司1,5,十倉好紀1,6,7  Oral
6 15p-NE-8 15:00-15:15 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  電気二重層FET によるNdNiO3 の金属‐絶縁体転移の電界制御 産総研1,CREST2,東北大WPI材料機構3,東大QPEC4,理研CERG5 浅沼周太郎1,2,向 平華1,2,山田浩之1,佐藤 弘1,井上 公1,2,赤穗博司1,2,澤 彰仁1,2,上野和紀3,川崎雅司3,5,岩佐義宏3,4  Oral
7 15p-NE-18 17:30-17:45 NE 3F-31番講義室
教育学部
6.3酸化物エレクトロニクス  極低温動作SrTiO3電界効果トランジスタの移動度向上 東北大金研1,東北大WPI材料機構2,東大院工3,CREST-JST4 菅沼憲正1,上野和紀2,塚崎 敦3,川崎雅司1,2,4  Oral
8 9月17日 17p-ZJ-1 13:00-13:15 ZJ 3F-大講義室
総合教育研究棟
21.1合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」  オゾンを用いた分子線エピタキシー法による高移動度ZnO/MgZnOヘテロ界面の作製 東北大金研1,ローム2,東大院工3,JST-PRESTO4,JST-CREST5,東北大WPI材料機構6 小塚裕介1,ジョセフ フォルソン1,赤坂俊輔2,中原 健2,塚崎 敦3,4,川崎雅司1,5,6  Oral