2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会
時 : 2006年3月22日(水)〜26日(日)
所 : 武蔵工業大学 (世田谷キャンパス)

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No 講演タイトル 講演者 発表日 発表時間 場所詳細 セクション 講演No 区分 講演種類
1 Pr1-xCaxMnO3薄膜の放射光光電子分光による電子状態解析 岡野圭央,摩庭 篤,大久保勇男,組頭広志,尾嶋正治,和達大樹,Mikk Lippmaa,藤森 淳,川崎雅司,鯉沼秀臣 3.22 9:32-9:35 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-2 一般 ポスター
2 (La,Sr)MnO3/Nb:SrTiO3接合における電場変調分光 中村優男,澤 彰仁,沖本洋一,佐藤 弘,荻本泰史,赤穂博司,川崎雅司,十倉好紀 3.22 9:37-9:39 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-4 一般 ポスター
3 エピタキシャル応力を制御したLa0.6Sr0.4MnO3薄膜の放射光光電子分光 中村優男,澤 彰仁,沖本洋一,佐藤 弘,荻本泰史,赤穂博司,川崎雅司,十倉好紀 3.22 9:45-9:47 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-7 一般 ポスター
4 共鳴軟X線発光分光による混合原子価Ti酸化物薄膜における価数変化の直接観測 堀場弘司,江口律子,竹内智之,徳島 高,原田慈久,大沢仁志,仙波泰徳,大橋治彦,郡司遼佑,大友 明,川添良幸,川崎雅司,辛  埴 3.22 9:47-9:49 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-8 一般 ポスター
5 CeドープSrTiO3薄膜の作製と電気特性 山田康浩、大友明、川崎雅司 3.22 9:53-9:55 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-10 一般 ポスター
6 NbドープSrTiO3ショットキー接合の静電容量‐電圧特性 藤井健志,澤 彰仁,山田浩之,松野丈夫,川崎雅司,赤穂博司 ,十倉好紀 3.22 10:03-10:05 P 7号館1F-713 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-14 一般 ポスター
7 TiO2 (001)基板を用いたSnO2エピタキシャル薄膜の作製 奥出正樹、上野和紀、大友明、川崎雅司 3.22 10:29-10:31 P 7号館1F-714 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-24 一般 ポスター
8 SrRuO3/Nb:SrTiO3ヘテロ界面電子状態のin-situ放射光光電子分光評価 豊田大介,高石理一郎,滝沢 優,大久保勇男,組頭広志,尾嶋正治,Lippmaa Mikk,藤森 淳,川崎雅司,鯉沼秀臣 3.22 10:55-10:57 P 7号館1F-714 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-34 一般 ポスター
9 アナターゼTiO2電界効果トランジスタ:界面の効果 上野 和紀、 豊崎 秀海、 佐藤 二美、 大友 明、 福村 知昭、 川崎 雅司 3.22 11:14-11:16 P 7号館1F-714 6.3 酸化物エレクトロニクス  22a-P1-41 一般 ポスター
10 高温超伝導のデリバティブ:酸化物エレクトロニクス(30分) 川崎雅司 3.23 16:50-17:20 ZE 6号館B1F-6B1 超伝導分科会企画「発見から20年、高温超伝導研究の最前線」  23p-ZE-8 招待 口頭
11  酸化物高温超電導体微粒子の衝撃圧縮と磁気センサへの応用(25分)  毛塚博史,藤田浩之,伊藤峰雄,菊地昌枝,阿藤敏行,川崎雅司,福岡清人 3.24 16:25-16:50  A 8号館1F-814 衝撃現象と極限環境プロセシング  24p-A-8 招待 口頭
12 (La,Sr)MnO3スピントンネル接合における電流パルス注入 山田浩之,佐藤 弘,川崎雅司,赤穗博司,十倉好紀 3.26 10:15-10:30 ZM 3号館1F-311 合同セッションE「スピントロニクス・ナノマグネティクス」  26a-ZM-6 一般 口頭
13 高温熱処理自己バッファ層(HITAB)を用いたL-MBE成長Mg0.15Zn0.85Oの室温発光寿命 久保田将司,塚崎 敦,尾沼猛儀,大友 明,宗田孝之,川崎雅司,秩父重英 3.26 10:15-10:30 ZP 3号館2F-321 合同セッションK「酸化亜鉛系機能性材料」  26a-ZP-5 一般 口頭
14 「分子線エピタキシー法による非極性a面及びm面ZnO基板上の窒素ドープZnO」 赤坂俊輔、田村謙太郎、湯地洋行、中原健、塚崎敦、大友明、川崎雅司 3.26 10:45-11:00 ZP 3号館2F-321 合同セッションK「酸化亜鉛系機能性材料」 26a-ZP-7 一般 口頭